Urządzenie do trawienia w plazmie chlorowej przy pomocy jonów reaktywnych

Ogólna charakterystyka

Urządzenie do trawienia w plazmie chlorowej przy pomocy jonów reaktywnych (RIE – ang. Reactive Ion Etching) PlasmaPro 100 ICP (ang. Inductively Coupled Plasma) firmy Oxford Instruments pozwala na selektywne, anizotropowe (o kontrolowanym profilu), i powtarzalne trawienie metodą RIE warstw technologicznych w plazmie.

Specyfikacja techniczna

  • Próżniowa komora załadowcza (ang. Load-lock)
  • Generator plazmy RF 13,56 MHz oraz źródło plazmy ICP 2 MHz
  • Elektroda chłodzona cieczą w zakresie -30°C – 80°C
  • Monitorowanie głębokości trawienia in-situ sterowanym komputerowo laserowym systemem interferometrycznym
  • Możliwość pracy na pojedynczych podłożach o średnicy do 200 mm, jak również małych kawałkach

Zastosowanie

  • Anizotropowe trawienie warstw aluminium (Al), polikrzemu (poly-Si), dwutlenku hafnu (HfO2), trójtlenku aluminium (Al2O3) i innych materiałów