Chemia rezystów

Ogólna charakterystyka

Półautomatyczne stacje do procesowania rezystu firmy EVGroup (EVG) pozwalają na pełną obróbkę chemiczną podłoży z użyciem rezystów zarówno do foto- jak i elektronolitografii.

Specyfikacja techniczna

  • Praca z podłożami o średnicach do 200 mm jak i na kawałkach
  • Regulacja obrotów podłoża 10 000 obr./min. i z przyspieszeniem do 7000 obr./s2
  • Linia dozowania standardowych rezystów dostosowana do rezystów o lepkości do 400 cps
  • System tłokowy akceptujący rezysty o lepkości od 10 cps do 20 000 cps
  • Funkcja cofania słupa cieczy podczas dozowania produktu
  • System do spłukiwania dolnej strony podłoża
  • System do usuwania nacieków krawędziowych
  • Wywoływanie metodami spray development oraz pudle development podczas procesu wirowania stolika

Zastosowanie

  • Pokrywanie i wywoływanie rezystu na powierzchni podłoży